2024年3月20-22日,拉普拉斯(廣州)半導體科技有限公司在上海參加了本屆SEMICON展會,在此次展會上,拉普拉斯展出了應用于SiC產(chǎn)線的多款設備,助力第三代半導體行業(yè)的發(fā)展。
在SEMICON China上, 拉普拉斯推出了SiC制程的立式高溫激活爐、氧化爐,立式LPCVD,臥式多功能機等關(guān)鍵核心設備。作為國內(nèi)碳化硅半導體設備制造商,拉普拉斯用高效和卓越的研發(fā)與生產(chǎn)能力,保障關(guān)鍵技術(shù),自主研發(fā),實現(xiàn)了6/8英寸SiC功率器件高溫氧化,退火,LPCVD等設備的全面交付能力,并實現(xiàn)量產(chǎn)。
在展會現(xiàn)場,拉普拉斯吸引眾多業(yè)界人士駐足交流,相互詳細探討和分享行業(yè)發(fā)展趨勢,設備發(fā)展方向和應用優(yōu)勢,拉普拉斯將會繼續(xù)堅持自主創(chuàng)新,強化技術(shù)創(chuàng)新能力,以技術(shù)突破為目標為行業(yè)發(fā)展貢獻力量。
敬請繼續(xù)關(guān)注拉普拉斯在晶圓設備領域的更新!
未來,拉普拉斯秉承著“可靠,增值,專注”的經(jīng)營理念,致力于成為領先的半導體領域核心工藝解決方案提供商,我們將不斷創(chuàng)新,不斷提升技術(shù)、產(chǎn)品和服務水平,加快攻克關(guān)鍵技術(shù)難題,為行業(yè)與客戶創(chuàng)造更大的價值,我們將不懈努力,為客戶提供先進設備和優(yōu)質(zhì)服務。
SEMICON China 2025 上海再見!
在SEMICON China上, 拉普拉斯推出了SiC制程的立式高溫激活爐、氧化爐,立式LPCVD,臥式多功能機等關(guān)鍵核心設備。作為國內(nèi)碳化硅半導體設備制造商,拉普拉斯用高效和卓越的研發(fā)與生產(chǎn)能力,保障關(guān)鍵技術(shù),自主研發(fā),實現(xiàn)了6/8英寸SiC功率器件高溫氧化,退火,LPCVD等設備的全面交付能力,并實現(xiàn)量產(chǎn)。
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